靶材的主要指標之一是密度，靶材的純度對薄膜性能影響較大，更是在靶材的原先的技術工藝中減少靶材固體中的氣孔，有效提高了濺射薄膜性能，并且影響了薄膜的光學和電學性能。靶材密度越高，薄膜性能越好。
靶材通常為多晶結構，晶粒大小從微米到毫米量級。晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快，而晶粒尺寸相差較小的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。
鈦鋁靶應用范圍：
鈦鋁靶廣泛應用于真空鍍膜行業的膜層鍍制、金屬、銀色、玫瑰金、七彩色、黑鈦等。
鈦鋁靶還可用于CVD涂層的原料、硬質涂層，硬面噴涂粉的主要原料。
把鈦通過多種方式制成鈦濺射靶材，可用于各種鍍膜，例如：太陽能、平板顯示、玻璃及裝飾鍍膜等。
鈦鋁靶可用于石油化工，真空制鹽，氯堿工業，制藥，精細化工，電解，電鍍，海水淡化、航空航天等行業。
產品參數：
1.產品名稱：鈦鋁靶
2.表面：光亮，酸洗面
3.號：TA0,TA1,TA2，TC4
4.純度：99.95%
5.密度：4.51 g/cm3
6.加工范圍：按客戶要求
7.規格：可根據客戶要求定做生產。
8.應用域：工業用途。
9.付款方式：30% 定金，70 %發貨前付清。（含稅開具17%增值稅**）
10.包裝方式: 用墊有塑料隔板的木箱包裝，內附有材質證明書及裝箱單等附件，單箱重量不超過100kg。
11.發貨方式：快遞或物流（可協商）
12.運 費：供應商承擔。
13.后期服務：保質期內如出現質量問題，供方承擔所有責任（正常使用范圍內）
