旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，里面裝有靜止不動的磁體，以慢速轉動。
濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。
在被濺射的靶(陰)與陽之間加個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子， 靶上加有定的負高壓，從靶發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
用途
太陽能電池，建筑玻璃，汽車玻璃，半導體，平板電視等。
