在現在電子元件制作中，靶材是十分重要的一種零件，需求量很大。那么靶材在制備時有什么要求？它的選用原則又是怎樣的，下面四豐小編就帶大家來了解下靶材的制備要求及選用原則。
制備靶材要求材料的雜質含量低純度高，靶材的純度會對薄膜的均勻性產生影響，純度越高，制作出來的靶材耐蝕性、電學和光學性能越好。但不同用途的靶材對純度的要求也不同，比如說，在工業中使用的靶材對于純度的要求就不太高；但半導體、顯示器等領域的靶材對于純度的要求還是比較高的。
靶材一般要求要有較高的致密度，較高的致密度能夠減少靶材中的氣孔，提高薄膜的性能。而且靶材的致密度除了會影響在濺射時的沉積速度、濺射膜粒子的密度外，還會對靶材濺射薄膜的電學性能和光學性能產生影響。
靶材的致密性越好，它的導電性和導熱性就越好，這樣的靶材使用起來濺射功率小，成膜的速度也越快，制成的薄膜也不容易開裂，能夠延長靶材的使用時間。
靶材成分均勻會對鍍膜質量產生影響，特別是對于復相結構的合金靶材與混合靶材。
靶材的晶粒尺寸也會影響靶材的性能，靶材的晶粒尺寸越細小，濺射鍍膜的厚度就會分布的更均勻，濺射的速度也就越快。
1、靶材在鍍膜成型后應該具備良好的機械強度和化學穩定性。
2、靶材需要選取與基體有著較好結合力的膜材，且與基體集合牢固，在濺射一層底膜之后才能進行所需模具的制備。
3、用作反應濺射成膜的膜材需要能夠較為容易地與反應氣體集合生成化合物膜。
4、在能夠滿足膜性能要求的前提下，靶材與基體的熱膨脹系數的差值越小越好，這樣能夠減小濺射膜熱應力的影響。
5、根據膜的用途和性能要求不同，選擇使用的靶材的要求也不同，所選用的靶材需要能滿足其純度、雜質含量、組分均勻性、機械加工精度等要求。
以上就是對靶材的制備要求及選用原則的全部介紹，靶材在制備中要求越高，制作出來的靶材性能也就越好，更能滿足產品的需要。洛陽高新四豐電子材料有限公司生產的有鉬及鉬合金靶、銅靶、鈦靶及鎢靶等各種靶材，如果您有相關需要，歡迎致電咨詢。
